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美国光学膜厚仪,广泛应用于各种薄膜、涂层光学常数(n and k)和厚度的精确测量,设备分为在线和离线两种工作模式,操作便捷,几秒钟内即可完成测量和数据分析,USB 连接计算机控制;
薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术,我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。
应用:
半导体(光刻胶、氧化物和氮化物等),
液晶显示器(ITO, Polyimide, Cell gap),
法医鉴定、生物薄膜和材料;
墨水、矿物、染料、化妆品;
硬质涂层、减反射涂层、滤波涂层;
医药、医疗器件;
光学薄膜、TiO2, SiO2, Ta2O5;
半导体化合物;
功能薄膜(MEMS/MOEMS);
非晶硅、纳米晶硅、晶体硅;
技术参数:
测量范围:20 nm to 50 μm (Thickness only),
100 nm to 10 μm (Thickness with n and k) ;
多层测量:Up to 4 layers;
光点大小调节范围:0.8 mm to 1 cm ;
薄膜厚度测量精度:±0.5%;
厚度测重复性:0.1nm;
样品台尺寸:200 mm × 200 mm;
主要特点:
*基片折射率和消光系数测量;
*薄膜厚度测量,平均值和标准偏差分析;
*薄膜折射率和消光系数测量;
*适用于不用材质和厚度的薄膜、涂层和基片;
*测试数据输出和加载;
*直接Patterned或特征机构的试样测试;
*可用于实时在线薄膜厚度、折射率监测;
*波长范围可选;
*系统配备强大的光学常数库和材料数据库,便于测试和数据分析;