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产品简介
仪器简介:
专业的PLD脉冲激光沉积系统(基片尺寸Φ2inch, 4inch, 6inch, 8inch、or flexible tape)供应商,凭借多年的娴熟的经验、雄厚的研发实力和生产能力,为不同客户提供专业脉冲沉积系统方案和优质的技术服务;并且已经被众多**高校、研究所和R&D企业所采用。
同时也为客户提供同类设备:
大面积电子束沉积系统:沉积区域70mmx200mm,适合金属、绝缘材料和介电材料等沉积;
大面积溅射系统:沉积区域Max 75mm(W) x 310mm(L),适合金属、半导体、绝缘材料和介电材料等沉积;
小型化溅射台:φ1inch~φ2inch基片,价格优惠,特别适合高校研究使用;
技术参数:
基片尺寸:Φ2inch, 4inch, 6inch, 8inch、or flexible tape material applied;
靶尺寸:Size Φ1”inch to Φ8inch;
靶数量:up to 6pcs;
基片加热: up to 900℃;
真空度:5x10-5 Pa,(On request,6x10-6 Pa or less) ;
主要特点:
靶Swing功能;
激光束扫描功能;
配备准分子激光器;
可选功能:Load Lock Chamber
RHEED分析功能
多功能系统:Comibination with Sputter gun,Electron beam、IBAD
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